Нанотехнологии - УрФО

Перейти на основной сайт
ИА ИНВУР Логотип Инновационного портала УрФО
Вы здесь: Главная // Аналитика

Образование пузырьков в кипящей воде можно контролировать

Добавлено: 2015-11-10, просмотров: 516



Кипячение воды, сопровождающееся образованием пузырьков, двигающихся к поверхности, — процесс, лежащий в основе множество технологий: электростанций, систем отопления и охлаждения, опреснительных установок. Теперь учёным впервые удалось выявить способ контролировать возникновение этих пузырьков в буквальном смысле одним щелчком электрического выключателя.

Система, которая может повысить эффективность производства электроэнергии и других процессов была создана сотрудниками Массачусетского технического института: профессором Эвелин Ван (Evelyn Wang), аспирантом Джереми Чо (Jeremy Cho) и выпускником 2014 года Джорданом Мизераком (Jordan Mizerak).

«Степень контролируемости процесса кипения зависит от температуры, – комментирует Ван. – Предыдущие системы были разработаны для управления кипением посредством электрических полей, но им требовалась особая жидкость (не вода) и в тысячу раз более высокие напряжения. Это делало их экономически нецелесообразными для практического применения».

Новый способ основан на добавлении поверхностно-активных веществ (ПАВ) в воду.

По сути,

учёные создают мыльную жидкость. Молекулы ПАВ, которые несут электрический заряд, могут притягиваться или отталкиваться от металлической поверхности, в зависимости от того, какая полярность напряжения, приложенного к металлу, используется. Соответственно, такой подход может делать металлическую поверхность гидрофильной или гидрофобной.

Добавление ПАВ приводит к тому, что

поверхность становится более гидрофобной, что увеличивает скорость нуклеации и образования пузырьков. Изменение заряда металлической поверхности делает её гидрофильной и ингибирует образование пузырьков.

Исследователи обнаружили, что они могут достигать десятикратного изменения в скорости образования пузырьков, просто переключая заряд.

Напомним, что для образования капель требуется некое ядро, например, частица пыли, которая инициирует образование капли во влажном воздухе. Точно также и для образования пузырьков в кипятке необходимы некие ядра. Обычно в их роли выступают крошечные неровности на поверхности металла. Если же поверхность является гидрофильной, то пузырьки не формируются.

Центральная идея концепции группы Ван — контроль скорости образования пузырьков посредством переключения полярности металлической поверхности.

В отличие от других подходов к модификации смачиваемости металлических поверхностей, которые полагаются на различные наноразмерные структуры,

эта система базируется на крошечных неровностях, естественно существующих на металлической поверхности и не требующих дополнительной обработки.

Возможность контролировать скорость образования пузырьков, в свою очередь, позволяет контролировать скорость теплопереноса между металлом и жидкостью. То есть имеет практическое применение, например, может лечь в основу более эффективных котлов электростанций.

По словам Чо,

данная система позволяет выбрать наилучшие параметры теплоотдачи по мере необходимости в тот или иной момент времени.

Группа из MIT подчёркивает, что система требует лишь относительно небольших изменений в существующих технологиях.

Это очень важно, так как энергетики в большинстве своём консервативны и не любят радикальные инновации.

В дальнейшем инженеры планируют с помощью демонстрации показать, что выгоды от усовершенствования будут превышать затраты.

Научная статья группы Ван была опубликована журналом Nature Communication.

Источник:

 vesti.ru